GLAD (Glancing Angle Deposition)
Física
Verbete 1 de 1
substantivo
Contexto: "Generally, the nanostructure thin films can fabricate by physical vapor deposition (PVD) methods, i.e., pulsed laser deposition, conventional sputtering, and electron-beam (EB) evaporation or sputtering integrated with glancing angle deposition (GLAD) techniques."
Fonte: Chaikeeree, T., Mungkung, N., Kasayapanand, N., Lertvanithphol, T., Nakajima, H., & Horprathum, M. (2021). Characterization broadband omnidirectional antireflection ITO nanorod films coating. Optical Materials, 121, 111545.
Fonte: Chaikeeree, T., Mungkung, N., Kasayapanand, N., Lertvanithphol, T., Nakajima, H., & Horprathum, M. (2021). Characterization broadband omnidirectional antireflection ITO nanorod films coating. Optical Materials, 121, 111545.
Termo equivalente: Deposição em ângulo de visão
Definição: "Glancing angle deposition is a thin film fabrication procedure that utilizes oblique vapor incidence and substrate motion during the fabrication process. As opposed to deposition at normal angle incidence , the GLAD method utilizes tilted substrates with or without azimuthal motion for fabricating nanostructured thin films."
Fonte: Buzea, C., Kaminska, K., Beydaghyan, G., Brown, T., Elliott, C., Dean, C., & Robbie, K. (2005). Thickness and density evaluation for nanostructured thin films by glancing angle deposition. Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures Processing, Measurement, and Phenomena, 23(6), 2545-2552.
Fonte: Buzea, C., Kaminska, K., Beydaghyan, G., Brown, T., Elliott, C., Dean, C., & Robbie, K. (2005). Thickness and density evaluation for nanostructured thin films by glancing angle deposition. Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures Processing, Measurement, and Phenomena, 23(6), 2545-2552.
Definição em português: "A deposição em ângulo de visão(GLAD) é um procedimento de fabricação de filmes finos que utiliza incidência oblíqua de vapor e movimento do substrato durante o processo de fabricação. Ao contrário da deposição em ângulo de incidência normal, o método GLAD utiliza substratos inclinados com ou sem movimento azimutal para a fabricação de filmes finos nanoestruturados."